একটি প্রতিরক্ষামূলক স্তর তৈরি করার জন্য চিকিত্সা করা পৃষ্ঠে তাদের আরও প্রয়োগের জন্য ধাতব কণাগুলিকে গরম করা, নাকাল, স্প্রে করার প্রক্রিয়া। আপনার প্রযুক্তি অনুযায়ী ধাতুর তাপ স্প্রে করা ঢালাই প্রক্রিয়ার অনুরূপপার্থক্য সঙ্গে যে যদি ঢালাই উদ্দেশ্য একটি কঠিন প্রাপ্ত হয় ধাতু গঠন, পণ্য, তারপর প্রধান ধাতু তাপ স্প্রে করার উদ্দেশ্য- পৃষ্ঠের উপর একটি প্রতিরক্ষামূলক স্তর গঠন।

থার্মাল স্প্রে পদ্ধতি আবিষ্কার M.W.Schoop-এর অন্তর্গত, যিনি আবিষ্কার করেছিলেন যে সীসার বল, যখন তারা দেওয়ালে আঘাত করে, তখন একটি শক্তিশালী সীসা স্তর তৈরি করে। একটি প্রতিরক্ষামূলক সীসা আবরণ প্রয়োগের প্রথম পরীক্ষাগুলি তরল ধাতু ব্যবহার করে সম্পাদিত হয়েছিল, পরে প্রযুক্তিটি শিখা জমার মধ্যে গঠিত হতে শুরু করে: গ্যাস বার্নারধাতু একটি তারের আকারে খাওয়ানো হয়েছিল. ধাতু জমা করার এই প্রযুক্তি বলা হয়েছিল কেনাকাটাবিজ্ঞানীর নামে নামকরণ করা হয়েছে এবং 1909 সালে খোলা একটি ধাতবকরণ প্ল্যান্টে ব্যবহার করা হয়েছিল। 1921 সালে, স্কুপ ধাতুর গুঁড়া স্প্রে করার প্রযুক্তির পেটেন্ট করেছিলেন, যা বিপজ্জনক ইলেক্ট্রোপ্লেটিং ক্রোমিয়াম প্লেটিংয়ের পরিবর্তে তাপ স্প্রে করা সম্ভব করেছিল।

অন্য কোনো ভ্যাকুয়াম আবরণ কোম্পানি হাইব্রিড প্রযুক্তি, উৎপাদন নমনীয়তা এবং কম খরচের মতো উদ্ভাবন অফার করে না। ন্যানোটেকনোলজি ব্যবহারের মাধ্যমে ভোক্তাদের অফারগুলি অটুট সংযোগের একটি অন্তহীন সিরিজ। 60 বছরেরও বেশি অভিজ্ঞতা, সর্বনিম্ন অপারেটিং খরচ এবং দ্রুততম চক্রগুলি আপনাকে সর্বোচ্চ শিল্প মানগুলির গ্যারান্টি দেয় যখন কোনও ব্যালেন্স এড়িয়ে যায় না।

থার্মাল স্প্রে প্রয়োগ

এই পরিসরে গবেষণা সংস্থা এবং পরীক্ষাগারগুলির জন্য "মিনি-কম্প্যাক্ট" সুবিধার সরঞ্জাম পরিবারগুলি, আরও পরিপক্ক আবরণ সিস্টেম এবং ইন-লাইন প্রক্রিয়াগুলির জন্য বিশেষ সরঞ্জাম, বৃহত্তর পণ্য এবং হাইব্রিড সিস্টেমগুলি অন্তর্ভুক্ত রয়েছে৷

থার্মাল স্প্রে প্রয়োগ

• তাপ স্প্রেপ্রয়োগ করাক্ষয় প্রতিরোধ, পরিধান প্রতিরোধ, তাপ প্রতিরোধ, বৈদ্যুতিক পরিবাহিতা, ইত্যাদির মতো বৈশিষ্ট্য সহ অংশ এবং সরঞ্জামগুলিতে পৃষ্ঠতল তৈরি করার পাশাপাশি পৃষ্ঠগুলি পুনরুদ্ধার এবং মেরামত করার জন্য।
• তাপ স্প্রে পদ্ধতি একটি বিকল্প হিসাবে পরিবেশন করতে পারেনগ্যালভানিক ক্রোমিয়াম প্লেটিং, ফসফেটিং, ধাতব ক্ল্যাডিং, পেইন্টের সাথে পৃষ্ঠের আবরণ ইত্যাদির মতো প্রক্রিয়াকরণ পদ্ধতি।

থার্মাল স্প্রে ব্যবহারের সুবিধা

1. একটি প্রতিরক্ষামূলক উপাদান হিসাবে প্রায় কোনো ধাতু ব্যবহার করার ক্ষমতা.
2. উত্তাপ কম তাপমাত্রায় ঘটে (150 ডিগ্রি সেন্টিগ্রেডের বেশি নয়), যা পৃষ্ঠের উপাদানের সাথে জমা ধাতুর মিশ্রণ এড়ায়।
3. বেশ কয়েকটি স্তর প্রয়োগ করার সম্ভাবনা, যার প্রতিটি তার নিজস্ব প্রতিরক্ষামূলক ফাংশন সম্পাদন করবে।
4. পৃষ্ঠ চিকিত্সার অন্যান্য পদ্ধতির তুলনায় নিরাপদ - বায়ু শুদ্ধ করতে ফিল্টার ব্যবহার করা যথেষ্ট।

নামক ধাতুর তাপ স্প্রে করার পদ্ধতিগুলির সাথে নিজেকে পরিচিত করুন দরকারী নোটঅথবা প্রতিরক্ষামূলক পৃষ্ঠ প্রয়োগের বিশদ বিবরণ পরিষ্কার করতে PromKomplekt বিশেষজ্ঞদের সাথে যোগাযোগ করুন ভিন্ন পথ: সংস্থার ওয়েবসাইটে একটি কলব্যাকের জন্য একটি অনুরোধ রাখুন, এবং Promkomplekt কোম্পানির পরিচালকরা আপনার সাথে যোগাযোগ করবেন এবং অফার করবেন ধাতু কাজ সেবাবিভিন্ন উপায়ে, অথবা আপনি করতে পারেন সস্তা ঘূর্ণিত ধাতু কিনুনইতিমধ্যে সমাপ্ত পৃষ্ঠ.

স্থান সংরক্ষণ, ব্যবহারিক এবং ব্যবহার করা সহজ। প্রতিটি মেশিন দুটি চার্জিং সিস্টেম দিয়ে সজ্জিত যা একটি বোতামের স্পর্শে অভিন্ন কাজের গতি, নির্ভুলতা এবং উচ্চ কার্যক্ষমতা প্রদান করে। শাস্ত্রীয় অপারেটিং সিস্টেমভাল ফলাফল এবং বহুমুখিতা জন্য একক এবং একাধিক লক্ষ্য প্রযুক্তির সমন্বয়. স্ট্যান্ডার্ড আকারে সিস্টেমের একটি সম্পূর্ণ সিরিজ।

ভ্যাকুয়াম আবরণ উদ্ভিদ

এই উল্লম্ব সিস্টেমগুলি একটি অল-ইন-ওয়ান মেশিনে নমনীয়তা এবং সৃজনশীলতার জন্য হাইব্রিড প্রযুক্তি সরবরাহ করে। আমাদের আউটলেটের সাথে যোগাযোগ করুন। আপনার প্রয়োজনীয় সমস্ত তথ্যের জন্য আমাদের বিশেষজ্ঞরা আপনার নিষ্পত্তিতে রয়েছেন। 3D প্রিন্টিং প্রযুক্তির সাম্প্রতিক বছরগুলির একটি দুর্দান্ত প্রবণতা।

পাতলা ফিল্ম ধাতু-পলিমার উপকরণ (ধাতুযুক্ত পলিমার, হার্ডওয়্যারএকটি পাতলা পলিমার আবরণ সহ, মাল্টিলেয়ার সিস্টেম, ইত্যাদি), ভ্যাকুয়াম প্রযুক্তি দ্বারা গঠিত, উচ্চ পরিষেবা বৈশিষ্ট্য দ্বারা চিহ্নিত করা হয় এবং কার্যকরভাবে বিভিন্ন প্রযুক্তিগত সমস্যা সমাধানে ব্যবহৃত হয়। তাদের প্রয়োগ মূলত আলোকবিদ্যা, বৈদ্যুতিক এবং রেডিও প্রকৌশল, রাসায়নিক প্রযুক্তি এবং অন্যান্য অনেক শিল্পের কৃতিত্ব নির্ধারণ করে। একই সময়ে, এমনকি পাতলা-ফিল্ম ধাতু-পলিমার উপকরণ গঠনে ভ্যাকুয়াম-প্লাজমা পদ্ধতির ব্যাপক ব্যবহার অদূর ভবিষ্যতে সম্ভব, যা প্রথমত, প্রযুক্তিগত সরঞ্জামগুলির বিকাশের সাথে, এর বিকাশ এবং বাস্তবায়নের সাথে যুক্ত। অত্যন্ত দক্ষ প্রযুক্তিগত প্রক্রিয়া, বিশেষ করে, ক্রমাগত স্বয়ংক্রিয় ভ্যাকুয়াম ইনস্টলেশনের ব্যবহার এবং দ্বিতীয়ত, ভ্যাকুয়াম ধাতু এবং পলিমার আবরণগুলির জমার ধরণগুলি অধ্যয়ন করার ক্ষেত্রে লক্ষণীয় সাফল্যের সাথে।

এই উপকরণগুলির গঠনের প্রধান বৈশিষ্ট্য হল ফেজ সীমানায় জটিল শারীরিক এবং রাসায়নিক প্রক্রিয়াগুলির সংঘটন, স্তর জমার অবস্থা এবং মোডগুলির উপর তাদের নির্ভরতা। এই কারণেই যে এমনকি প্রযুক্তিগতভাবে সবচেয়ে সহজ দ্বি-স্তর ধাতু-পলিমার সিস্টেমের বিবেচনার অর্থ বোঝায়, বিশেষত, সীমানা পলিমার স্তরটির মূল উপাদান হিসাবে বিবেচনা করা। এই স্তরটির গঠন এবং বৈশিষ্ট্যগুলি প্রসারণের গতিবিদ্যা, যোগাযোগের রাসায়নিক প্রক্রিয়া দ্বারা নির্ধারিত হয়, যা একটি নিয়ম হিসাবে, একটি শিথিল প্রকৃতির এবং মিথস্ক্রিয়াকারী উপাদানগুলির প্রকৃতি এবং একটি আঠালো যোগাযোগ গঠনের প্রযুক্তিগত পরামিতিগুলির উপর নির্ভর করে। বর্তমানে, ইন্টারফেসিয়াল মিথস্ক্রিয়াগুলির প্রকৃতি এবং প্রক্রিয়া, সীমানা স্তরগুলির গঠন এবং বৈশিষ্ট্য এবং ইন্টারফেসিয়াল উপাদানগুলির প্রকৃতি এবং বাহ্যিক তাপীয় এবং বাহ্যিক তাপীয় প্রক্রিয়াগুলির বৈশিষ্ট্য এবং বৈশিষ্ট্যগুলির উপর প্রভাবের উপর প্রচুর পরিমাণে পরীক্ষামূলক উপাদান জমা হয়েছে। যান্ত্রিক প্রভাব। তাত্ত্বিক অধ্যয়ন, যার মূল উদ্দেশ্য হল ইন্টারফেসিয়াল প্রক্রিয়াগুলির বিশ্লেষণাত্মক বিবরণ, কম অসংখ্য, যা চলমান প্রক্রিয়াগুলির জটিলতা, বিপুল সংখ্যক কারণের প্রভাব, যার উপর প্রভাবের মাত্রা এবং প্রকৃতি দ্বারা ব্যাখ্যা করা হয়। ইন্টারফেসিয়াল প্রক্রিয়াগুলি বিস্তারিতভাবে অধ্যয়ন করা হয়নি।

ভ্যাকুয়াম আবরণ

ভ্যাকুয়াম আবরণ- স্প্রে করা পদার্থের কণাগুলি উৎস থেকে (গ্যাস পর্যায়ে স্থানান্তরের স্থান) অংশের পৃষ্ঠে স্থানান্তরটি 10 ​​-2 Pa এবং নীচের ভ্যাকুয়ামে (ভ্যাকুয়াম বাষ্পীভবন) এবং 1 Pa (ক্যাথোড স্পুটারিং) এবং 10 -1 -10 -2 Pa (ম্যাগনেট্রন এবং আয়ন-প্লাজমা স্পুটারিং) চাপে রক্তরসে প্রসারণ এবং সংবহনমূলক স্থানান্তর দ্বারা। অংশের পৃষ্ঠের সাথে প্রভাবের উপর স্প্রে করা পদার্থের প্রতিটি কণার ভাগ্য নির্ভর করে তার শক্তি, পৃষ্ঠের তাপমাত্রা এবং ফিল্ম এবং অংশের উপাদানগুলির রাসায়নিক সখ্যতার উপর। যে পরমাণু বা অণুগুলি পৃষ্ঠে পৌঁছেছে তা হয় এটি থেকে প্রতিফলিত হতে পারে, বা শোষণ করে এবং কিছু সময় পরে এটি ছেড়ে যায় (ডিসোর্পশন), বা শোষণ করে এবং পৃষ্ঠের উপর একটি ঘনীভূত (ঘনত্ব) গঠন করে। উচ্চ কণা শক্তি, উচ্চ পৃষ্ঠের তাপমাত্রা এবং কম রাসায়নিক সম্বন্ধে, কণাটি পৃষ্ঠ দ্বারা প্রতিফলিত হয়। অংশের পৃষ্ঠের তাপমাত্রা, যার উপরে সমস্ত কণা এটি থেকে প্রতিফলিত হয় এবং ফিল্ম গঠিত হয় না, তাকে ভ্যাকুয়াম জমার সমালোচনামূলক তাপমাত্রা বলা হয়; এর মান নির্ভর করে ফিল্ম উপাদানের প্রকৃতি এবং অংশের পৃষ্ঠের উপর এবং পৃষ্ঠের অবস্থার উপর। বাষ্পীভূত কণার খুব কম প্রবাহে, এমনকি যদি এই কণাগুলি পৃষ্ঠে শোষিত হয়, কিন্তু কদাচিৎ অন্যান্য অনুরূপ কণার সাথে ঘটতে থাকে, তবে তারা শোষিত হয় এবং নিউক্লিয়াস গঠন করতে পারে না; ফিল্ম বড় হয় না। প্রদত্ত পৃষ্ঠের তাপমাত্রার জন্য বাষ্পীভূত কণার সমালোচনামূলক প্রবাহের ঘনত্ব হল সর্বনিম্ন ঘনত্ব যেখানে কণাগুলি ঘনীভূত হয় এবং একটি ফিল্ম তৈরি করে। জমাকৃত ফিল্মগুলির গঠন উপাদানের বৈশিষ্ট্য, পৃষ্ঠের অবস্থা এবং তাপমাত্রা এবং জমার হারের উপর নির্ভর করে। ছায়াছবি নিরাকার (গ্লাসি, যেমন অক্সাইড, Si), পলিক্রিস্টালাইন (ধাতু, সংকর, Si), বা একক স্ফটিক (যেমন আণবিক মরীচি এপিটাক্সি দ্বারা প্রাপ্ত সেমিকন্ডাক্টর ফিল্ম) হতে পারে। কাঠামোকে স্ট্রিমলাইন করতে এবং ফিল্মের অভ্যন্তরীণ যান্ত্রিক চাপ কমাতে, তাদের বৈশিষ্ট্যের স্থায়িত্ব বাড়াতে এবং ভ্যাকুয়াম না ভেঙে জমার পরে অবিলম্বে পণ্যগুলির পৃষ্ঠে আনুগত্য উন্নত করতে, ফিল্মগুলি জমার সময় পৃষ্ঠের তাপমাত্রার চেয়ে সামান্য বেশি তাপমাত্রায় অ্যানিল করা হয়। . প্রায়শই, ভ্যাকুয়াম ডিপোজিশনের মাধ্যমে, বিভিন্ন উপকরণ থেকে মাল্টিলেয়ার ফিল্ম স্ট্রাকচার তৈরি করা হয়।

ভ্যাকুয়াম আবরণ উদ্ভিদ

ভ্যাকুয়াম জমার জন্য ব্যবহৃত হয় প্রযুক্তিগত সরঞ্জামবিরতিহীন, আধা-একটানা এবং একটানা ক্রিয়া। সেটিংস পর্যায়ক্রমিক কর্মএকটি নির্দিষ্ট সংখ্যক লোড করা পণ্যের জন্য ফিল্ম জমার একটি চক্র পরিচালিত হয়। ক্রমাগত ইনস্টলেশন সিরিয়াল এবং ভর উত্পাদন ব্যবহার করা হয়. এগুলি দুটি ধরণের: মাল্টি-চেম্বার এবং মাল্টি-পজিশন সিঙ্গেল-চেম্বার। পূর্বেরটি ক্রমানুসারে সাজানো ডিপোজিশন মডিউল নিয়ে গঠিত, যার প্রতিটিতে নির্দিষ্ট পদার্থের ফিল্ম বা তাদের জমা তাপ চিকিত্সাএবং নিয়ন্ত্রণ। মডিউলগুলি লক চেম্বার এবং একটি পরিবহন পরিবাহক ডিভাইস দ্বারা আন্তঃসংযুক্ত। মাল্টি-পজিশন সিঙ্গেল-চেম্বার ইনস্টলেশনে একটি পরিবাহক বা ঘূর্ণমান ধরণের পরিবহন ডিভাইস দ্বারা সংযুক্ত বেশ কয়েকটি স্পুটারিং পোস্ট (একটি ভ্যাকুয়াম চেম্বারে অবস্থিত) থাকে। ভ্যাকুয়াম জমার জন্য ইনস্টলেশনের প্রধান উপাদান এবং সিস্টেমগুলি হল স্বাধীন ডিভাইস, নির্দিষ্ট ফাংশন সঞ্চালন:

• একটি ভ্যাকুয়াম তৈরি করা
• বাষ্পীভবন বা ফিল্ম উপাদান স্প্রে
• যন্ত্রাংশ পরিবহন
• ভ্যাকুয়াম ডিপোজিশন মোড এবং ফিল্ম বৈশিষ্ট্য নিয়ন্ত্রণ
• পাওয়ার সাপ্লাই

ভ্যাকুয়াম স্প্রে করা

ভ্যাকুয়াম অবস্থার অধীনে অংশ বা পণ্যের পৃষ্ঠে ছায়াছবি বা স্তর প্রয়োগ (1.0 -1 10 -7 Pa)। ভ্যাকুয়াম ডিপোজিশন ব্যবহার করা হয় সেমিকন্ডাক্টর মাইক্রোসার্কিটের প্ল্যানার টেকনোলজিতে, পাতলা-ফিল্ম হাইব্রিড সার্কিট, পাইজোটেকনিকের পণ্য, অ্যাকোস্টোইলেক্ট্রনিক্স ইত্যাদির (পরিবাহী, অস্তরক, প্রতিরক্ষামূলক স্তর, মুখোশ ইত্যাদির জমা), অপটিক্সে (জমাদান)। প্রতিফলন, প্রতিফলিত, ইত্যাদি আবরণ), সীমিত - প্লাস্টিকের পৃষ্ঠকে ধাতব করার সময় কাচ পণ্য, গাড়ির জানালা tinting. ধাতু (Al, Au, Cu, Cr, Ni, V, Ti, ইত্যাদি), সংকর ধাতু (উদাহরণস্বরূপ, NiCr, CrNiSi), রাসায়নিক যৌগ (সিলিসাইড, অক্সাইড, বোরাইড, কার্বাইড ইত্যাদি), জটিল গ্লাস প্রয়োগ করা হয় ভ্যাকুয়াম ডিপোজিশন। কম্পোজিশন (উদাহরণস্বরূপ, I 2 O 3 B 2 O 3 SiO 2 Al 2 O 3 CaO, Ta 2 O B 2 O 3 I 2 O 3 GeO 2), cermets।

ভ্যাকুয়াম ডিপোজিশন পণ্যের পৃষ্ঠে জমা হওয়া উপাদানের কণার (পরমাণু, অণু বা ক্লাস্টার) নির্দেশিত প্রবাহ এবং তাদের ঘনীভবনের উপর ভিত্তি করে। প্রক্রিয়াটি বেশ কয়েকটি পর্যায় অন্তর্ভুক্ত করে: স্প্রে করা পদার্থ বা উপাদানের ঘনীভূত পর্যায় থেকে গ্যাস পর্যায়ে স্থানান্তর, পণ্যের পৃষ্ঠে গ্যাস পর্যায়ের অণু স্থানান্তর, পৃষ্ঠে তাদের ঘনীভবন, নিউক্লিয়াসের গঠন এবং বৃদ্ধি এবং একটি চলচ্চিত্র গঠন।

সাধারণত, একটি ভ্যাকুয়াম ডিপোজিশন প্ল্যান্টে নিম্নলিখিত উপাদানগুলি অন্তর্ভুক্ত থাকে:

• একটি ওয়ার্কিং চেম্বার যেখানে ফিল্ম জমা হয়;
• তাদের পাওয়ার সাপ্লাই সিস্টেম এবং নিয়ন্ত্রণ ডিভাইসগুলির সাথে বাষ্পযুক্ত বা স্প্রে করা উপকরণগুলির উত্স;
• ভ্যাকুয়াম এবং গ্যাস প্রবাহের বেগ পরিমাপের জন্য প্রয়োজনীয় ভ্যাকুয়াম এবং গ্যাস প্রবাহের সংস্থান (যার মধ্যে পাম্প, লিক, ভালভ, ফাঁদ, ফ্ল্যাঞ্জ এবং কভার রয়েছে) প্রদান করে উচ্ছেদ এবং গ্যাস বিতরণ ব্যবস্থা;
• পাওয়ার সাপ্লাই সিস্টেম এবং ইনস্টলেশনের সমস্ত ডিভাইস এবং কাজের ইউনিট ব্লক করা;
• ভ্যাকুয়াম ডিপোজিশন ইউনিট নিরীক্ষণ এবং নিয়ন্ত্রণের জন্য একটি সিস্টেম, যা নির্দিষ্ট জমার হার, ফিল্মের বেধ, অংশগুলির পৃষ্ঠের তাপমাত্রা, অ্যানিলিং তাপমাত্রা, ফিল্মগুলির ভৌত বৈশিষ্ট্য প্রদান করে (অ্যাকুয়েটর এবং তথ্য আউটপুট সহ একটি নিয়ন্ত্রণ মাইক্রোপ্রসেসর কম্পিউটারের মাধ্যমে সংযুক্ত সেন্সরগুলির একটি সেট রয়েছে ডিভাইস);
• ট্রান্সপোর্ট ডিভাইস যা ওয়ার্কিং চেম্বারে অংশগুলির ইনপুট এবং আউটপুট নিশ্চিত করে, ডিপোজিশন স্টেশনগুলিতে তাদের সুনির্দিষ্ট স্থাপন এবং একটি মাল্টিলেয়ার ফিল্ম সিস্টেম তৈরি করার সময় এক ডিপোজিশন অবস্থান থেকে অন্য জায়গায় স্থানান্তর;
• আনুষঙ্গিক সিস্টেম এবং প্রযুক্তিগত সরঞ্জাম(ইন্ট্রা-চেম্বার স্ক্রিন, ড্যাম্পার, ম্যানিপুলেটর, হাইড্রোলিক এবং নিউমেটিক অ্যাকুয়েটর, গ্যাস পরিশোধন ডিভাইস নিয়ে গঠিত)।

ভ্যাকুয়াম ডিপোজিশন প্রযুক্তি অত্যন্ত শক্তি নিবিড় এবং অনেক দেশে একটি বিশেষ পণ্য হয়ে উঠছে। অনেক কোম্পানি ভ্যাকুয়াম ডিপোজিশনকে আরও বেশি উৎপাদনশীল এবং কম ব্যয়বহুল বায়ুমণ্ডলীয় প্লাজমা জমা দিয়ে প্রতিস্থাপন করছে।

তাপীয় ভ্যাকুয়াম স্প্রে করা।

পাতলা ফিল্ম তৈরির জন্য তাপীয় ভ্যাকুয়াম পদ্ধতিটি শূন্যস্থানে একটি পদার্থকে তার সক্রিয় বাষ্পীভবন এবং স্তর পৃষ্ঠের বাষ্পীভূত পরমাণুগুলির ঘনীভবন পর্যন্ত গরম করার উপর ভিত্তি করে। তাপীয় বাষ্পীভবনের মাধ্যমে পাতলা ফিল্ম ডিপোজিশন পদ্ধতির সুবিধার মধ্যে রয়েছে জমা উপাদানের উচ্চ বিশুদ্ধতা (প্রক্রিয়াটি উচ্চ এবং অতি উচ্চ ভ্যাকুয়ামের অধীনে সঞ্চালিত হয়), বহুমুখীতা (ধাতু, সংকর, অর্ধপরিবাহী, ডাইলেকট্রিক্সের ফিল্ম জমা হয়) এবং আপেক্ষিক সহজতা বাস্তবায়ন. পদ্ধতির সীমাবদ্ধতা হল অনিয়ন্ত্রিত জমার হার, কম, পরিবর্তনশীল এবং জমা কণার অনিয়ন্ত্রিত শক্তি।

স্প্রে করা পদার্থটি একটি গরম করার যন্ত্রে (বাষ্পীভবনকারী) স্থাপন করা হয়, যেখানে এটি যথেষ্ট উচ্চ তাপমাত্রায় নিবিড়ভাবে বাষ্পীভূত হয়। বিশেষ পাম্প দ্বারা চেম্বারের অভ্যন্তরে তৈরি ভ্যাকুয়ামে, বাষ্পীভূত পদার্থের অণুগুলি অবাধে এবং দ্রুত আশেপাশের স্থানগুলিতে প্রচার করে, বিশেষত, সাবস্ট্রেটের পৃষ্ঠে পৌঁছে। যদি সাবস্ট্রেটের তাপমাত্রা সমালোচনামূলক মান অতিক্রম না করে তবে পদার্থটি সাবস্ট্রেটের উপর ঘনীভূত হয়, অর্থাৎ ফিল্মটি বৃদ্ধি পায়। বাষ্পীভবনের প্রাথমিক পর্যায়ে, বাষ্পীভূত পদার্থের পৃষ্ঠ দ্বারা শোষিত অমেধ্যগুলির কারণে ফিল্মের দূষণ এড়াতে, সেইসাথে বাষ্পীভবনকে আনতে অপারেটিং তাপমাত্রাসাবস্ট্রেটে পদার্থের প্রবাহকে সাময়িকভাবে ব্লক করতে একটি ড্যাম্পার ব্যবহার করা হয়। উপর নির্ভর করে কার্যকরী উদ্দেশ্যজমা প্রক্রিয়া চলাকালীন ফিল্ম, জমা করার সময়, বেধ, বৈদ্যুতিক প্রতিরোধেরবা অন্য কোন বিকল্প। প্যারামিটারের সেট মান পৌঁছানোর পরে, ড্যাম্পার আবার পদার্থের প্রবাহকে ব্লক করে এবং ফিল্ম বৃদ্ধির প্রক্রিয়া বন্ধ হয়ে যায়। জমা করার আগে একটি হিটার দিয়ে সাবস্ট্রেটকে গরম করা তার পৃষ্ঠে শোষিত পরমাণুগুলির শোষণকে উত্সাহ দেয় এবং জমা করার সময় ক্রমবর্ধমান ফিল্মের কাঠামোর উন্নতির জন্য শর্ত তৈরি করে। একটি ক্রমাগত অপারেটিং পাম্পিং সিস্টেম 10-4 Pa এর ক্রম শূন্যতা বজায় রাখে।

বাষ্পীভূত পদার্থকে যে তাপমাত্রায় এটি নিবিড়ভাবে বাষ্পীভূত করে তা গরম করার কাজটি একটি ইলেক্ট্রন বা লেজার রশ্মি, মাইক্রোওয়েভ বিকিরণ, প্রতিরোধী হিটার ব্যবহার করে (সরাসরি সংক্রমণ দ্বারা বিদ্যুত্প্রবাহপছন্দসই পদার্থের নমুনার মাধ্যমে বা উত্তপ্ত কয়েল থেকে তাপ স্থানান্তর)। সাধারণভাবে, পদ্ধতিটি বাষ্পীভূত পদার্থকে গরম করার পদ্ধতি এবং বাষ্পীভবনের নকশা উভয় ক্ষেত্রেই মহান বৈচিত্র্য দ্বারা আলাদা করা হয়।

যদি একটি মাল্টিকম্পোনেন্ট পদার্থ থেকে একটি ফিল্ম প্রাপ্ত করার প্রয়োজন হয়, তাহলে বেশ কয়েকটি বাষ্পীভবন ব্যবহার করা হয়। যেহেতু বিভিন্ন উপাদানের বাষ্পীভবনের হার ভিন্ন, তাই প্রাপ্ত মাল্টিকম্পোনেন্ট ফিল্মগুলির রাসায়নিক গঠনের পুনরুত্পাদনযোগ্যতা নিশ্চিত করা বরং কঠিন। অতএব, তাপীয় ভ্যাকুয়াম জমার পদ্ধতিটি প্রধানত খাঁটি ধাতুগুলির জন্য ব্যবহৃত হয়।

তাপীয় ভ্যাকুয়াম জমার সম্পূর্ণ প্রক্রিয়াটিকে তিনটি পর্যায়ে বিভক্ত করা যেতে পারে: একটি পদার্থের পরমাণুর বাষ্পীভবন, স্তরে তাদের স্থানান্তর এবং ঘনীভবন। পৃষ্ঠ থেকে পদার্থের বাষ্পীভবন ঘটে, সাধারণভাবে বলতে গেলে, পরম শূন্য ছাড়া অন্য কোনো তাপমাত্রায়। যদি আমরা ধরে নিই যে কোনো পদার্থের অণুর (পরমাণু) বাষ্পীভবনের প্রক্রিয়াটি এমন একটি চেম্বারে চলে যার দেয়াল পর্যাপ্তভাবে উত্তপ্ত এবং বাষ্পকে ঘনীভূত করে না (অণু প্রতিফলিত করে), তাহলে বাষ্পীভবন প্রক্রিয়াটি ভারসাম্যপূর্ণ হয়, অর্থাৎ, অণুগুলি ছেড়ে যাওয়ার সংখ্যা। পদার্থের পৃষ্ঠটি পদার্থে ফিরে আসা অণুর সংখ্যার সমান। সিস্টেমের ভারসাম্যের অবস্থার সাথে সম্পর্কিত বাষ্পের চাপকে স্যাচুরেটেড বাষ্পের চাপ বা এর স্থিতিস্থাপকতা বলা হয়।

অনুশীলন দেখায় যে সাবস্ট্রেটের উপর ফিল্ম জমার প্রক্রিয়াটি উত্পাদনের জন্য গ্রহণযোগ্য হারে ঘটে, যদি সম্পৃক্ত বাষ্পের চাপ প্রায় 1.3 Pa এর সমান হয়। একটি পদার্থের তাপমাত্রা যেখানে pi = 1.3 Pa (pi হল বাষ্পীভবন তাপমাত্রায় সম্পৃক্ত বাষ্পের চাপ) তাকে শর্তসাপেক্ষ তাপমাত্রা বলা হয়। কিছু পদার্থের জন্য শর্তসাপেক্ষ তাপমাত্রা গলনাঙ্ক Tm থেকে বেশি, কিছুর জন্য এটি কম। যদি Tusl< Тпл, то это вещество можно интенсивно испарять из твердой фазы (возгонкой). В противном случае испарение осуществляют из жидкой фазы. Зависимости давления насыщенного пара от температуры для всех веществ, используемых для напыления тонких пленок, представлены в различных справочниках в форме подробных таблиц или графиков

পাতলা ফিল্ম জমার দ্বিতীয় পর্যায় হল বাষ্পীভবন থেকে সাবস্ট্রেটে পদার্থের অণু স্থানান্তর। যদি সাবস্ট্রেটে অণুর একটি রেকটিলিনিয়ার এবং নির্দেশিত গতি নিশ্চিত করা হয়, তবে একটি উচ্চ উপাদান ব্যবহার ফ্যাক্টর পাওয়া যেতে পারে, যা ব্যয়বহুল উপকরণ জমা করার ক্ষেত্রে বিশেষভাবে গুরুত্বপূর্ণ। অন্যান্য জিনিস সমান হওয়ায়, এটি সাবস্ট্রেটে ফিল্ম বৃদ্ধির হারও বাড়ায়।

পদার্থটি বাষ্পীভূত হওয়ার সাথে সাথে বেশিরভাগ ধরণের বাষ্পীভবনের জন্য প্রবাহের হার এবং বিকিরণ প্যাটার্ন ধীরে ধীরে পরিবর্তিত হয়। এই অবস্থার অধীনে, স্থাবর স্তরগুলির অনুক্রমিক প্রক্রিয়াকরণ একটি ভ্যাকুয়াম চক্রের মধ্যে প্রক্রিয়াকৃত একটি ব্যাচের মধ্যে ফিল্মের পরামিতিগুলির মানগুলির একটি বিক্ষিপ্ততার দিকে নিয়ে যায়। প্রজননযোগ্যতা উন্নত করতে, সাবস্ট্রেটগুলি একটি ঘূর্ণায়মান ডিস্ক-ক্যারোজেলে মাউন্ট করা হয়। যখন ক্যারোজেল ঘোরে, তখন স্তরগুলি পর্যায়ক্রমে এবং বারবার বাষ্পীভবনের উপর দিয়ে যায়, যার কারণে প্রতিটি স্তরের জমার অবস্থা সমতল হয় এবং বাষ্পীভবনের অস্থায়ী অস্থিরতার প্রভাব দূর হয়। পাতলা ফিল্ম জমার তৃতীয় পর্যায় হল সাবস্ট্রেট পৃষ্ঠে একটি পদার্থের পরমাণু এবং অণুগুলির ঘনীভবনের পর্যায়। এই পর্যায়ে শর্তসাপেক্ষে দুটি পর্যায়ে বিভক্ত করা যেতে পারে: প্রথম পর্যায়ে– সাবস্ট্রেটে প্রথম পরমাণু (অণু) শোষণের মুহূর্ত থেকে একটি অবিচ্ছিন্ন আবরণ তৈরির মুহূর্ত পর্যন্ত এবং চূড়ান্ত পর্যায়ে, যেখানে ফিল্মটি নির্দিষ্ট বেধে একজাতীয়ভাবে বৃদ্ধি পায়।